真空電鍍工藝
真空（kōng）蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在（zài）塑料表（biǎo）麵形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：可以利（lì）用電阻產生的熱能，也可以利用（yòng）電子束。
在對塑料製品實施蒸鍍時，為（wéi）了確保金屬冷（lěng）卻時所（suǒ）散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於（yú）蒸鍍。
置（zhì）待鍍金屬和被（bèi）鍍塑料製品於真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表麵凝聚成金屬薄（báo）膜。
在真空條件下可減少（shǎo）蒸發（fā）材（cái）料的原子、分子在（zài）飛向塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化（huà）學反應（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉（chén）積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜（mó）室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高（gāo）的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍（dù）層厚（hòu）度0.04-0.1um太薄，反射率（lǜ）低；太厚，附著力差，易（yì）脫落。厚度0.04時反射率為90%。
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